第三百一十三章 光刻技术 (第6/7页)

找制作“易优威”光刻机的公司或者科研机构，后来又告诉他：“‘易优威’是大写的‘EUV’”，之后再次来电叮嘱他关注一个叫做“阿斯麦”的公司。

    三道金牌，让安德烈不得不上心。

    “阿斯麦”三个字到底是什么含义，陈立东说不清楚，不过做光刻机的圈子本就不大，他很快找到了对应的这家公司。

    这家公司的名字是AdvancedSemiconductorMaterialsInternational，简称ASM，用汉语拟音的话应该是“阿斯麦”。

    这家公司在艾斯巴国，它原本是一家芯片制作商，十几年前电子巨头菲利普与之合作，成立了新的部门，开发光刻系统和机器。

    光刻技术出现在上世纪50年代，山姆国贝尔实验室的两位工程师尝试把线路图“打印”到硅晶片上，使之产生更精细、更复杂的设计。

    大致方法是先制版，通常采用石英玻璃板和铬板的复合材料制作底板，用电子束或镭束在上面刻画集成线路，做成光掩模。

    然后，硅片上涂上光敏涂层，将光掩模上的图案曝光在硅片涂层上，接着通过化学蚀刻的办法，完成集成线路的“打印”。

    光掩模相当于底板，这么反复cao作就能够大量制作印刷上集成线路的硅片。

    1961年，山姆国GCA公司的DavidW.Mann部门，制造出第一台步进式光刻机，售价30000刀，精度1微米。

    1984年，阿斯麦成立，当时蓝星大概有10家光刻机制造商，那时这个行业